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合金靶材
合金靶材
合金靶材合金靶材是由两种或多种金属元素组成的溅射镀膜材料，通过物理气相沉积(PVD)工艺在基材表面形成合金薄膜，主要特征包括高纯度、高均匀性、大尺寸和复杂结构，制备工艺主要包括原材料提纯、合金化熔炼、...
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金属靶材
金属靶材
金属靶材金属靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，其主要特征包括高纯度、高均匀性、大尺寸和复杂结构，通过磁控溅射（直流）镀膜技术可形成超硬、耐磨、防腐等特性的金属膜层，主要应用于半导体芯片制造 ...
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陶瓷靶材
陶瓷靶材
陶瓷靶材陶瓷靶材是物理气相沉积（PVD）或磁控溅射等工艺中，用来被高能粒子轰击，从而在基板上沉积出特定功能薄膜的陶瓷材料源，是芯片、显示器等现代电子工业中几乎是不可或缺的材料，具有高纯度、高致密度、成...
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单晶靶材
单晶靶材
单晶靶材单晶靶材的核心特点是拥有高度有序的晶体结构，通过脉冲激光沉积（PLD） 和磁控溅射，物理气相沉积（PVD）等技术，以生长高质量的氧化物、半导体等薄膜，制备具有特定晶体取向和外延结构的...
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钛宝石Ti:Al2O3
钛宝石Ti:Al2O3
掺钛蓝宝石(Ti:Sapphire)激光晶体掺钛蓝宝石(Ti:Al2O3)激光晶体是目前实现飞秒超短脉冲激光和拍瓦级高功率激光器技术的核心材料，该晶体具有波长可调谐(660-1200nm)、较宽的发射...
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锌（Zn）单晶
锌（Zn）单晶
锌(Zn)金属单晶金属锌(Zn)单晶，纯度可以达到5N甚至6N，因其极低的晶界密度，在人工海水中能形成更致密的保护层，抗氯离子渗透能力显著增强。其腐蚀电流密度比4N锌降低61%，极化电阻提高37%，非...
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镁（Mg）单晶
镁（Mg）单晶
镁(Mg)金属单晶金属镁(Mg)单晶具有密排六方（HCP） 结构，这使得它的力学和物理化学性能具有非常明显的各向异性，使其成为了研究镁合金变形机理和开发新型镁材的理想平台。金属镁(Mg)单晶...
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镍（Ni）单晶
镍（Ni）单晶
镍(Ni)金属单晶镍（Ni）金属单晶本身是一种银白色、具有延展性和磁性的金属，而它的单晶形态则在导电、导热和力学性能上展现出更优异的特性，尤其在高温和磁性相关应用中表现突出。以镍单晶为基体，添加铝、钛...
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铝（Al）单晶
铝（Al）单晶
铝Al金属单晶金属铝（Al）单晶是去除了晶界的纯铝，这让它在电学、力学和信号传输等性能上，相比普通多晶铝有着显著优势。作为理想的基片或衬底材料，用于生长合金薄膜或研究生物材料的表面物理、化学性质。单晶...
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