金属靶材_上海中科神光光电产业有限公司

金属靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，其主要特征包括高纯度、高均匀性、大尺寸和复杂结构，通过磁控溅射（直流）镀膜技术可形成超硬、耐磨、防腐等特性的金属膜层，主要应用于半导体芯片制造、显示屏制造、光伏电池封装、光学镀膜与装饰镀膜等领域。
磁控溅射具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好、成分接近靶材成分等优点。其沉积速率快、沉积效率高，适合工业生产大规模应用，且基片温度低，适合塑料等不耐高温的基材镀膜。制备的薄膜纯度高、致密性好、膜基结合力强，可制备金属、合金、氧化物等多种薄膜，且环保无污染。

产品介绍

金属靶材

金属靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料，其主要特征包括高纯度、高均匀性、大尺寸和复杂结构，通过磁控溅射（直流）镀膜技术可形成超硬、耐磨、防腐等特性的金属膜层，主要应用于半导体芯片制造、显示屏制造、光伏电池封装、光学镀膜与装饰镀膜等领域。

磁控溅射具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好、成分接近靶材成分等优点。其沉积速率快、沉积效率高，适合工业生产大规模应用，且基片温度低，适合塑料等不耐高温的基材镀膜。制备的薄膜纯度高、致密性好、膜基结合力强，可制备金属、合金、氧化物等多种薄膜，且环保无污染。

合金靶材

陶瓷靶材