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氧化镁（MgO）
氧化镁（MgO）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中，如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一，可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件,具有很大的现实及潜在应用市场。
主要性能参数 | |
生长方法 | 电弧法 |
晶体结构 | 立方 |
晶格常数 | a=4.217 Å |
熔点 | 2800（℃） |
纯度 | 99.97% |
密度 | 3.58（g/cm3） |
硬度 | 5.5（mohs） |
热膨胀系数 | 11.2x10-6（/℃） |
晶体解理面 | <100> |
光学透过 | >90%（200~1000nm） |
介电常数 | ε= 9.65 |
热导率 | 36 W/m.k @ 300°K |
尺寸 | 5x5，10x10，20x20，30x30mm ,Ø50.8 mm |
厚度 | 0.5mm，1.0mm |
抛光 | 单面或双面 |
晶向 | <001>,<110>,<111> |
晶面定向精度: | ±0.5°或0.3° |
边缘定向精度: | 2°（特殊要求可达1°以内） |
Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
包装 | 100级洁净袋，1000级超净室 |
