微纳光电子功能材料实验室
光电材料事业部

氧化镁(MgO)

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技术参数

  氧化镁(MgO)单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等。由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件,具有很大的现实及潜在应用市场。

主要性能参数

生长方法

电弧法

晶体结构

立方

晶格常数

a=4.130 Å

熔点

2800(℃)

纯度

99.95%

密度

3.58(g/cm3)

硬度

5.5(mohs)

热膨胀系数

11.2x10-6(/℃)

晶体解理面

<100>

光学透过

>90%(200~1000nm)

介电常数

ε= 9.65

热导率

36 W/m.k @ 300°K

尺寸

5x5,10x10,20x20,30x30mm ,Ø50.8 mm

厚度

0.5mm,1.0mm

抛光

单面或双面

晶向

<001>, <110>,<111>

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

2°(特殊要求可达1°以内)

Ra:

≤5Å(5µm×5µm)

包装

100级洁净袋,1000级超净室

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