上海中科神光光电产业有限公司
光电材料事业部

产品中心

氟化锂(LiF)

联系我们附件下载
技术参数

  氟化锂晶体的透过率范围在从真空紫外110 nm到红外的6.0 μm,是真空紫外区透过率最好的材料。这种晶体被广泛的用于制备紫外-可见-红外领域的光学窗口、透镜、棱镜和折射元件,较低的折射率使得该晶体可以在不镀减反射膜的情况下直接使用。氟化锂晶体也可以被用作X射线探测器晶体,同时可以做为OLED显示屏镀膜材料,我们可以提供提拉法和下降法生长的高质量氟化锂单晶。

主要性能参数

晶体结构

立方

晶格常数

a=4.026 Å

熔点(℃)

870

密度(g/cm3)

2.635

硬度

4.0(mohs)

热膨胀系数

37.0 x 10-6 /K

折射率

n=1.39

透过波段

0.11-7.00 μm

透 过 率

> 90% @0.2~4.5 μm;

色彩离差Hf-Hc

0.00395

温度系数dh/dt x 10-6

12.7 @0.6 m

晶体生长方法

Bridgeman或者CZ

解理面

<100>

尺寸

10*10,20*20,30*30,Ø50.8mm

厚度

0.5mm,1.0mm 或者根据客户要求定做

抛光

单面或双面

晶面定向精度:

±0.5°

边缘定向精度:

2°(特殊要求可达1°以内)

Ra:

≤10Å(5µm×5µm)

包装

100级洁净袋,1000级超净室

配件详情: