上海中科神光光电产业有限公司
光电材料事业部
氧化锆（Y:ZrO2）单晶基片是最早呗开发应用的高温超导基片之一。由于ZrO2 需掺入钇（Y）以稳定结构，一般实际使用的是YSZ单晶---加入钇稳定剂的氧化锆单晶。它机械、化学稳定性好，价格较低，特别适于用在是阳性薄膜制备工作中。
| 主要性能参数 | |
| 晶体结构 | 立方 |
| 晶格常数 | a=5.147 Å |
| 熔点（℃） | 2700 |
| 密度（g/cm3） | 6.0 |
| 硬度 | 8-8.5（mohs） |
| 纯度 | 99.99% |
| 热膨胀系数（/℃） | 10.3×10E-6 |
| 介电常数 | ε=27 |
| 生长方法 | 弧熔法，冷坩埚法 |
| 尺寸 | 10x3，10x5，10x10，15x15，，20x15，20x20， |
| dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm | |
| 厚度 | 0.5mm，1.0mm |
| 抛光 | 单面或双面 |
| 晶向 | <001>±0.5º |
| 晶面定向精度: | ±0.5° |
| 边缘定向精度: | 2°（特殊要求可达1°以内） |
| 斜切晶片 | 可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 |
| Ra: | ≤5Å（5µm×5µm） |
| 包装 | 100级洁净袋，1000级超净室 |
